加拿大pc28官网走势图 泛林公布干式光刻胶进展:可在后谈工艺杀青 28nm 间距径直图案化

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    加拿大pc28官网走势图 泛林公布干式光刻胶进展:可在后谈工艺杀青 28nm 间距径直图案化

    发布日期:2024-12-13 09:35    点击次数:59

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    作为韩国十分有人气的小说封插画师,她大多画的都是网络言情小说的封面,偶尔会画画耽美小说。

    IT之家 1 月 26 日音信,泛林集团 Lam Research 好意思国加州当地时刻本月 14 日通知,其干式光刻胶时间告捷通过 imec 认证,可径直在逻辑半导体后谈工艺(IT之家注:BEOL,互联层制作)中杀青 28nm 间距的径直图案化,能空闲 2nm 及以下先进制程的需求。

    当今在先进制程边界常用的光刻胶为基于化学放大旨趣的湿式旋涂光刻胶,而泛林的干式光刻胶则是由小于 0.5nm 的金属有机微粒单位气相千里积而来。

    泛林声称其干式光刻胶具有更优秀的光子拿获智力,同期光刻胶层的厚度也更容易调控。在具体发扬方面,这一新式光刻胶可克服 EUV 光刻边界曝光剂量和谬误率这对主要矛盾,同期较湿化学光刻胶更为环保。

    ▲ 光刻历程,从涂胶到制得图案

    泛林干式光刻胶在后谈工艺中的图案化智力当今已在 0.33 (Low) NA EUV 光刻机上得回了考证,改日还可彭胀至迟缓干与使用的 0.55 (High) NA EUV 光刻平台上。



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